ASML nie może narzekać. Kolejne miliony płyną z Koreii Południowej

Samsung inwestuje w technologię High-NA EUV, kupując dwa najnowsze systemy litograficzne ASML Twinscan EXE:5200B o łącznej wartości 773 milionów dolarów. Każda z tych maszyn jest w stanie przetwarzać ponad 175 wafli na godzinę. Pierwszy skaner ma zostać zainstalowany jeszcze w tym roku, natomiast drugi trafi do fabryki Samsunga na początku 2026 roku.

Na te same maszyny czeka Intel oraz SK hynix

Opisywane urządzenia umożliwiają tworzenie tranzystorów o wielkości zaledwie 8 nm, a więc znacznie mniejszych niż w obecnych węzłach "klasy 2 nm", gdzie odstęp między bramkami przekracza 40 nm, a odstęp między metalowymi ścieżkami wynosi około 20 nm.

Samsung Foundry planuje wykorzystać nowe skanery głównie do produkcji układów logicznych i pamięci SRAM, a zastosowanie w produkcji bardziej skomplikowanego DRAM ma nadejść w późniejszym terminie.

ASML prognozuje, że do 2027 roku dostarczy 10 skanerów EUV High-NA oraz 56 EUV Low-NA - w tym 5 dla Intela, 7 dla Samsunga i nawet 20 dla SK Hynix. W przypadku droższych maszyn, Niebiescy planują wykorzystać je przy produkcji w nadciągającej dopiero litografii Intel 14A.

I chociaż cena za jeden taki system wydają się astronomiczna, to pozwala on znacząco uprościć proces dzięki redukcji liczby etapów dla wybranych warstw. To skraca czas cyklu produkcyjnego i obniża jego koszt oraz zwiększa uzysk. W efekcie pozwala zaoferować lepsze ceny klientom. Nowe maszyny są też kluczowe dla sprawnego przechodzenia na nowsze węzły.